A novel method of automatically controlling thickness of a metal film during film deposition in a deposition chamber. The method involves producing an X-ray beam directed to the metal film deposited on a wafer in a deposition chamber, and detecting X-ray fluorescence of the metal film. The thickness of the metal film determined based on the detected X-ray fluorescence is compared with a preset value to continue deposition if the determined thickness is less than the preset value. Deposition is stopped when the determined thickness reaches the preset value.

Eine Romanmethode von Stärke eines Metallfilmes während der Filmabsetzung in einem Absetzungraum automatisch steuern. Die Methode bezieht, einen Röntgenstrahllichtstrahl zu produzieren mit ein, der auf den Metallfilm verwiesen wird, der auf einer Oblate in einen Absetzungraum niedergelegt wird, und Röntgenstrahlfluoreszenz des Metallfilmes zu ermitteln. Die Stärke des Metallfilmes stellte gegründet auf der ermittelten Röntgenstrahlfluoreszenz wird verglichen mit Standardwert, um Absetzung fortzusetzen, wenn die entschlossene Stärke kleiner ist, als Standardwert fest. Absetzung wird gestoppt, wenn die entschlossene Stärke Standardwert erreicht.