A photoresist stripping apparatus and a corresponding method for removing photoresist layers after a patterned polyimide layer is developed. The photoresist-stripping apparatus includes a transporting unit, a stripping unit, a washing unit, a drying unit and a control unit. The transporting unit connects the stripping unit, the washing unit and the drying unit. The control unit is responsible for controlling the transport sequence and timing of the transporting unit. The method of stripping the photoresist layer off the OLED panel includes providing a stripping solution to the stripping unit to remove photoresist layers. The OLED panel is jet-cleaned with a washing solution in the washing unit so that any residual stripping agent is removed. Finally, the surface of the OLED panel is blown dry.

Un materiale mettente a nudo del photoresist e un metodo corrispondente per la rimozione degli strati di photoresist dopo uno strato modellato di polyimide è messo a punto. L'apparecchio photoresist-mettente a nudo include un'unità di trasporto, un'unità mettente a nudo, un'unità di lavaggio, un'unità di secchezza e un'unità di controllo. L'unità di trasporto collega l'unità mettente a nudo, l'unità di lavaggio e l'unità di secchezza. L'unità di controllo è responsabile del controllo della sequenza di trasporto e del cronometrare dell'unità di trasporto. Il metodo di togliere lo strato di photoresist il pannello di OLED include fornire una soluzione mettente a nudo all'unità mettente a nudo per rimuovere gli strati di photoresist. Il pannello di OLED getto-è pulito con una soluzione di lavaggio nell'unità di lavaggio in moda da rimuovere tutto l'agente decolorante residuo. Per concludere, la superficie del pannello di OLED è saltata asciutta.