A charge monitoring device comprising one or more capacitor-resistor pairs. The one or more capacitor-resistor pairs comprise a resistor and a capacitor connected in series. The capacitor comprises a ferroelectric charge storage layer. A method of forming the charge storage device is also provided. The charge monitoring device may be used to measure charge accumulation on a semiconductor wafer. The method comprises the steps of positioning a charge monitoring device in a semiconductor wafer production chamber, initiating a manufacturing process in the chamber and measuring the charge accumulation on the charge monitoring device.

Μια συσκευή ελέγχου δαπανών περιλαμβάνοντας ένα ή περισσότερα ζευγάρια πυκνωτής-αντιστατών. Τα ένα ή περισσότερα ζευγάρια πυκνωτής-αντιστατών περιλαμβάνουν έναν αντιστάτη και έναν πυκνωτή που συνδέονται στη σειρά. Ο πυκνωτής περιλαμβάνει ένα σιδηροηλεκτρικό στρώμα αποθήκευσης δαπανών. Μια μέθοδος τη συσκευή αποθήκευσης δαπανών παρέχεται επίσης. Η συσκευή ελέγχου δαπανών μπορεί να χρησιμοποιηθεί για να μετρήσει τη συσσώρευση δαπανών σε μια γκοφρέτα ημιαγωγών. Η μέθοδος περιλαμβάνει τα βήματα του προσδιορισμού θέσης μιας συσκευής ελέγχου δαπανών σε μια αίθουσα παραγωγής γκοφρετών ημιαγωγών, κίνηση μιας διαδικασίας κατασκευής στην αίθουσα και μέτρηση της συσσώρευσης δαπανών στη συσκευή ελέγχου δαπανών.