A method of passivating an edge-emitting semiconductor diode laser and the
resultant product. Laser bars are cleaved in air from a wafer containing
multiple laser bars. The bars are placed into a vacuum processing chamber
in which two steps are performed without breaking vacuum. The first step
includes cleaning the facets including removing the native oxide by, for
example, a low-energy ion beam or by an electron cyclotron resonance (EAR)
plasma containing hydrogen and possibly argon or xenon with the bars being
negatively biased. The second step includes coating the cleaned facets
with a thin passivation layer of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H),
whereby the facets are coating by the passivation layer without an
intervening oxide. A low oxygen partial pressure of no more than 10.sup.-8
Torr is maintained between the cleaning and deposition, both of which
preferably are done in the same chamber. Also preferably, anti-reflective
or highly reflective coatings are deposited on the facets without
returning the laser bars to air.
Метод пассивировать кра-ispuska4 лазер диода полупроводника и возникающий продукт. Штанги лазера ы в воздухе от вафли содержа множественные штанги лазера. Адвокатскя сословие помещены в вакуум обрабатывая камеру в 2 шага выполнены без ломая вакуума. Первыйа шаг вклюает очищать фасетки включая извлекать родную окись мимо, например, низкоэнергический луч иона или плазмой резонанса циклотрона электрона (УХА) содержа водопод и по возможности аргон или ксеноним при адвокатскя сословие сословие отрицательно biased. Второй шаг вклюает покрывать очищенные фасетки с тонким слоем запассивированности наполненного водородом аморфического кремния (a-Si:H), whereby фасетки покрывают слоем запассивированности без вмешиваясь окиси. Давление низкого кислорода парциальное of no больше чем торр.ие 10.sup.-8 поддержано между чисткой и низложением, оба из которой предпочтительн сделаны в такой же камере. Также предпочтительн, анти-otrajatel6nye или высоки отражательные покрытия депозированы на фасетках без возвращающ штанги лазера к воздуху.