A metal interconnect structure and method of making the same implants ions of an alloy elements into a copper line through a via. Then ion implantation of the alloy elements in the copper line through the via provides improved electromigration properties at the copper line at a critical electromigration failure site, without attempting to provide alloy elements throughout the entire copper line.

Una struttura di interconnessione del metallo e un metodo di fabbricazione lo stessi degli ioni dei implants degli elementi della lega in una linea di rame con la a via. Allora l'impianto di ione degli elementi della lega nella linea di rame con via fornisce le proprietà migliorate di electromigration alla linea di rame ad un luogo critico di guasto di electromigration, senza tentare di fornire gli elementi della lega durante l'intera linea di rame.