A method of direct-write nanolithography comprising: providing a solid substrate comprising a surface; providing a nanoscopic tip coated with patterning compound; and contacting the coated tip with the substrate, so that the patterning compound is delivered to the substrate so as to produce a desired pattern in submicrometer dimensions. Nanolithographic resolution can be affected by substrate grain size, diffusion rate of the patterning compound, tip-substrate contact time, the rate of transport of the patterning compound from the tip to the substrate, and tip sharpness. The method is a useful tool for fabrication of nanoscale structures.

Метод направлять-piwet nanolithography состоя из: обеспечивать твердый субстрат состоя из поверхности; обеспечивать nanoscopic конец покрыл с делая по образцу смесью; и контактирующ coated конец с субстратом, так, что делая по образцу смесь будет поставлена к субстрату для того чтобы произвести заданную картину в размерах submicrometer. Разрешение Nanolithographic может быть повлияно на размером зерна субстрата, тарифом диффузии делая по образцу смеси, временем контакта наклонять-substrata, тарифом перехода делая по образцу смеси от конца к субстрату, и сметливостью конца. Методом будет полезный инструмент для изготовления структур nanoscale.