An ArF excimer laser device and a fluoride laser device for exposure which is structured so that primary current that infuses energy from a magnetic pulse compression circuit to discharge electrodes via a peaking capacitor overlaps secondary current that infuses energy from the capacitor in the final stage of the magnetic pulse compression circuit to the discharge electrodes, the oscillation cycle of the secondary current is set longer than the oscillation cycle of the primary current, and a pulse of laser oscillation operation is effected by the initial half-cycle of the discharge oscillation current waveform that reverses the polarity of the primary current being overlapped by the secondary current and by at least two half-cycles continuing thereafter, as a result of which a high repetition rate, pulse stretch, line-narrowed ArF excimer laser device and fluorine laser device can be implemented at repetition rate exceeding 2 kHz.

Un dispositif de laser d'excimer d'ArF et un dispositif de laser de fluorure pour l'exposition qui est structurée de sorte que le courant primaire qui infuse l'énergie d'un circuit magnétique de compression d'impulsion pour décharger des électrodes par l'intermédiaire d'un condensateur faisant une pointe recouvre le courant secondaire qui infuse l'énergie du condensateur à l'étape finale du circuit magnétique de compression d'impulsion aux électrodes de décharge, le cycle d'oscillation du courant secondaire est placé plus long que le cycle d'oscillation du courant primaire, et une impulsion d'opération d'oscillation de laser est effectuée par le moitié-cycle initial de la forme d'onde courante d'oscillation de décharge qui renverse la polarité du courant primaire recouvert par le courant secondaire et par au moins deux moitié-cycles continuant ensuite, en raison ce qu'un taux élevé de répétition, le bout droit d'impulsion, ligne-a rétréci du laser d'excimer d'ArF le dispositif et le dispositif de laser de fluor peuvent être mis en application au taux de répétition excédant 2 kilohertz.