A method of forming a substantially regular array of microscopic structures on a surface of a sample (4) is described. The sample comprises a microscopic layer of at least one first material on a substrate of a second material, wherein the microscopic layer is sufficiently thin that stress fields at the interface of the microscopic layer and the substrate cause formation of separated regions of the first material on the substrate. The microscopic layer on the sample (4) is irradiated by means of a particle beam (5) at an acute angle .alpha., to influence the direction of alignment of said separated regions and/or the relative position of adjacent said separated regions.

Un método de formar un arsenal substancialmente regular de estructuras microscópicas en una superficie de una muestra (4) se describe. La muestra abarca una capa microscópica por lo menos de un primer material en un substrato de un segundo material, en donde la capa microscópica es suficientemente fina que los campos de tensión en el interfaz de la capa microscópica y del substrato causan la formación de regiones separadas del primer material en el substrato. La capa microscópica en la muestra (4) se irradia por medio de una viga de la partícula (5) en un alpha. del ángulo agudo, para influenciar la dirección de la alineación de las regiones separadas dichas y/o de la posición relativa de regiones separadas dichas adyacentes.