A method for estimating repair accuracy of a mask shop. The method includes the steps of providing a mask having a light-shielding layer with a pattern of a plurality of lines, each of which has a defect, using the mask shop to repair the defects, measuring first widths of the lines where the defects are repaired and second and third widths of the lines aside where the defects are repaired, and calculating ratios of mean values of the second and third widths to the first widths for estimating the repair accuracy.

Un método para estimar exactitud de la reparación de una tienda de la máscara. El método incluye los pasos de proveer de una máscara que tiene una capa luz-que blinda un patrón de una pluralidad de líneas, cada uno de las cuales tiene un defecto, usando la tienda de la máscara para reparar los defectos, midiendo las primeras anchuras de las líneas donde se reparan los defectos y en segundo lugar y las terceras anchuras de las líneas a un lado donde se reparan los defectos, y los cocientes calculadores de valores medios de las segundas y terceras anchuras a las primeras anchuras para estimar la exactitud de la reparación.

 
Web www.patentalert.com

< Steganography decoding methods employing error information

< Voice activated communication system and program guide

> Controlling thermal expansion of mask substrates by scatterometry

> Image processing method and image processing system

~ 00092