The object of the present invention IS to provide an optical imprinting apparatus and method for producing a two-dimensional pattern, having line widths less than the wavelength of an exposure light. The evarnescent (proximity) field effect is adopted to realize the apparatus and method. An optical imprinting apparatus comprises: a container in which light is enclosed therein; an exposure-mask having a proximity field exposure pattern firmly fixed to a section of said container for exposing said exposure pattern on a photo-sensitive material through an evanescent field by said light enclosed therein; and a light source for supplying said light in said container.

Het doel van de onderhavige uitvinding IS optische stempelende apparaten en een methode te verstrekken om een tweedimensionaal patroon te veroorzaken, dat lijnbreedten heeft dan minder de golflengte van een blootstellingslicht. Het evarnescent effect (van het nabijheids) gebied wordt goedgekeurd om de apparaten en de methode te realiseren. Een optisch stempelend apparaat bestaat uit: een container waarin aansteek is daarin ingesloten; een blootstelling-masker dat een de blootstellingspatroon heeft van het nabijheidsgebied bevestigde stevig aan een sectie van bovengenoemde container voor het blootstellen van bovengenoemd blootstellingspatroon op een fotogevoelig materiaal door een vluchtig gebied door bovengenoemd daarin ingesloten licht; en een lichtbron voor het leveren van bovengenoemd licht in bovengenoemde container.

 
Web www.patentalert.com

< Highly conductive composite polysilicon gate for CMOS integrated circuits

< Method of synthesizing metal doped diamond-like carbon films

> Magnetic field applicator for heating magnetic substances in biological tissue

> Uses of VEGF-E

~ 00095