A method of generating a mask of use in printing a target pattern on a substrate. The method includes the steps of (a) determining a maximum width of features to be imaged on the substrate utilizing phase-structures formed in the mask; (b) identifying all features contained in the target pattern having a width which is equal to or less than the maximum width; (c) extracting all features having a width which is equal to or less than the maximum width from the target pattern; (d) forming phase-structures in the mask corresponding to all features identified in step (b); and (e) forming opaque structures in the mask for all features remaining in target pattern after performing step (c).

Een methode om een masker van gebruik te produceren in de druk van een doelpatroon op een substraat. De methode omvat de stappen van (a) bepalend imaged een maximumbreedte van eigenschappen om op het substraat te zijn dat fase-structuren gebruikt die in het masker worden gevormd; (b) identificeert alle eigenschappen in het doelpatroon dat een breedte heeft die aan of minder dan de maximumbreedte gelijk is; (c) halend alle eigenschappen die een breedte hebben die aan of minder dan de maximumbreedte van het doelpatroon gelijk is; (d) vormt fase-structuren in het masker dat aan alle eigenschappen beantwoordt die in stap (b) worden geïdentificeerd; en (e) vormt ondoorzichtige structuren in het masker voor alle eigenschappen die in doelpatroon blijven na het uitvoeren van stap (c).