A lithography tool includes an exposure chamber and a reticle handler that exchanges a reticle being exposed as prescribed by the user of the lithography tool. The reticle handler can include a vacuum-compatible robot, a vacuum chamber to house the robot, a load-lock to input reticles and transition them from atmospheric pressure to vacuum, a processing station for processing the reticle, and a reticle library for storing at least one extra reticle so that it is quickly available for exchange during an exposure process. The robot can have a two or more handed gripper to simultaneously hold multiple reticles. This allows a first reticle to be removed from the reticle stage with a first hand and a second reticle to be loaded onto the reticle stage with a second hand, and so on, which minimizes exchange time.

Инструмент литографированием вклюает камеру выдержки и укротитель перекрещения обменивает перекрещением будучи подверганным действию как предписано потребителем инструмента литографированием. Укротитель перекрещения может включить вакуум-sovmestimy1 робот, камеру вакуума для того чтобы расквартировать робот, нагрузк-zamok для того чтобы input перекрещения и переход они от атмосферного давления вакуумировать, обрабатывая станцию для обрабатывать перекрещение, и архив перекрещения для хранить на наименьшем один экстренный перекрещении так что он быстро имеющийся для обмена во время процесса выдержки. Робот может иметь два или несколько врученных gripper к одновременно держать множественные перекрещения. Это позволяет первое перекрещение извлечься от этапа перекрещения при первая рука и второе перекрещение, котор нужно нагрузить на этап перекрещения с второй рукой, и настолько дальше, которая уменьшает время обменом.