In an excimer laser oscillation apparatus including a laser chamber (20)
constituted by a laser tube (2) for storing a laser gas containing a gas
mixture of at least one inert gas selected from the group consisting of
Kr, Ar, and Ne, He and F.sub.2 gas, and an optical resonator consisting of
a pair of reflection mirrors (5, 6) arranged to sandwich the laser chamber
(20) therebetween, the inner surface of the laser chamber (20) for storing
the laser gas has a reflection-free surface with respect to light of a
desired wavelength of 248 nm, 193 nm, or 157 nm, and the uppermost surface
of the inner surface consists of a fluoride, and a means (waveguide 1) for
introducing a microwave for exciting the laser gas in the laser chamber
(20) is prepared. With this arrangement, an excimer laser oscillation
apparatus, an oscillation method, and an exposure apparatus can be
provided, which can reduce the load on the lens material and its surface,
can simplify the mirror or laser scanning control system, and are
satisfactorily used in mass production since the service life of an
excimer laser can be sufficiently prolonged.
In einem excimer Laser Pendelbewegung Apparat einschließlich einen Laser Raum setzten (20) durch einen Laser Schlauch (2) für die Speicherung eines Laser Gases fest, das eine Gasmischung von mindestens einem Edelgas enthält, das von der Gruppe vorgewählt wurde, die aus Kr, Ar und Ne, er und Gas F.sub.2 und ein optischer Resonator besteht aus einem Paar Reflexion Spiegeln besteht (5, 6) geordnet zum Sandwich, das der Laser Raum (20) therebetween, hat die innere Oberfläche des Laser Raumes (20) für die Speicherung des Laser Gases eine reflexionsfreie Oberfläche in Bezug auf Licht einer gewünschten Wellenlänge von 248 nm, von 193 nm oder von 157 nm, und die oberste Oberfläche der inneren Oberfläche besteht von einem Fluorid und Mittel (Wellenleiter 1) für das Vorstellen einer Mikrowelle für das Aufregen des Laser Gases im Laser Raum (20) wird vorbereitet. Mit dieser Anordnung können ein excimer Laser Pendelbewegung Apparat, eine Pendelbewegung Methode und ein Belichtung Apparat versehen werden, der die Last auf dem Objektivmaterial und seiner Oberfläche verringern kann, das Spiegel- oder Laserabtastungsteuersystem vereinfachen kann, und werden zufriedenstellend in der Massenproduktion seit der Nutzungsdauer eines excimer Lasers können genug ausgedehnt werden verwendet.
