Disclosed is a photolithographic pattern-forming material capable of giving
a fine patterned resist layer rapidly and being used repeatedly. The
pattern-forming material is a multilayered body comprising a substrate and
a photoresist layer thereon which is overlaid with a three-layered
composite film for near-field light generation consisting of an
intermediate layer of a non-linear optical material such as antimony
sandwiched between two dielectric layers. When irradiated with active rays
focused on the optically nonlinear layer, a fine optical window or light
scattering point is formed therein where a near-field light is generated
to pattern-wise expose the photoresist layer.
Ein photolithographic gegeben die Muster-Formung Material frei, das zum Geben einer Geldstrafe fähig ist, die patterned ist, widerstehen Schicht schnell und wiederholt verwendend. Das Muster-bildenmaterial ist ein vielschichtiger Körper, der darauf ein Substrat und eine Photoschicht enthält, die overlaid mit einem drei-überlagerten zusammengesetzten Film für near-fangen das helle Erzeugung ist, das aus einer Zwischenschicht eines nicht linearen optischen Materials wie Antimon besteht, das zwischen zwei dielektrischen Schichten sandwiched ist. Als bestrahlt mit aktiven Strahlen, konzentrierte auf die optisch nichtlineare Schicht, ein feines optisches Fenster, oder Lichtstreuungpunkt wird darin gebildet, wo ein near-fangen Licht zum Muster-klugen Exposé die Photoschicht erzeugt wird.
