Onium salts of arylsulfonyloxynaphthalenesulfonate anions with iodonium or
sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition
comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for
microfabrication, especially by deep UV lithography because of many
advantages including improved resolution, improved focal latitude,
minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED,
minimized debris after coating, development and peeling, and improved
pattern profile after development.
Onium Salze der arylsulfonyloxynaphthalenesulfonate Anionen mit iodonium oder sulfonium Kationen sind Roman. Chemisch verstärkt widerstehen dem Aufbau, der das onium Salz enthält, während ein photoacid Generator für microfabrication, besonders durch tiefe UVLITHOGRAPHIE wegen vieler Vorteile einschließlich verbesserte Auflösung, verbesserte fokale Breite, herabgesetzte Linie Breite Veränderung oder Formverminderung sogar auf langfristigem PED, herabgesetzten Rückstand, nachdem man beschichtet hat, Entwicklung und Schale entsprochen wird, und verbessertes Musterprofil nach Entwicklung.
