Provided is a novel photosensitive resistive ink composition, comprising:
(A) a photo curable prepolymer containing at least two ethylenically
unsaturated bonds with an a,.beta.-unsaturated carboxylic acid,
represented by the formula I, (B) a photocurable monomer containing at
least three vinyl groups and an a,.beta.-unsaturated carboxylic acid, (C)
a photo-initiator, (D) organic solvents, (E) an epoxy compound containing
at least one vinyl group and one epoxy group in the molecule unit, (F) a
curing agent capable of allowing a photocurable prepolymer (A) undergo a
thermal reaction, and (G) a clay nano-composite capable of increasing the
surface area of inorganic materials of the photosensitive resistive ink
composition. The composition produces a solder mask film having a desired
pattern after coating, exposure, development and postcuring and excellent
in adhesiveness, resistance to chemicals, resistance to insulatiion,
resistance to heat, developability, pot life, resistance to electroless
gold plating, transparency of the photo-resist film and resolution.
Con tal que sea una composición resistente fotosensible de la tinta de la novela, el abarcar: (a) un prepolymer curable de la foto que contiene por lo menos dos enlaces ethylenically no saturados con una a, ácido carboxylic de.beta.-unsaturated, representado por el fórmula I, (b) un monomer photocurable que contiene por lo menos tres grupos y una a, ácido carboxylic del vinilo de.beta.-unsaturated, (c) un foto-iniciador, (d) los solventes orgánicos, (e) un compuesto de epoxy que contiene por lo menos un grupo del vinilo y un grupo de epoxy en la unidad de la molécula, (f) un agente que cura capaz de permitir un prepolymer photocurable (a) experimentan una reacción termal, y el (G) un capaz nano-compuesto de la arcilla de aumentar el área superficial de materiales inorgánicos de la composición resistente fotosensible de la tinta. La composición produce una película de la máscara de la soldadura que tiene un patrón deseado después de cubrir, de la exposición, del desarrollo y de postcuring y excelente en adherencia, resistencia a los productos químicos, resistencia al insulatiion, resistencia al calor, developability, vida de pote, resistencia a la galjanoplastia de oro electroless, la transparencia de la película del photo-resist y la resolución.
