A method for simultaneously forming microstructures in substrates and
altering their chemical character. The method involves exposing a surface
portion of a substrate to light source, which is strong enough and of the
appropriate wavelength to cause ablation of the substrate. The ablation of
the substrate is controlled to form microstructures therein, such as
channels. The ablation is conducted under a chemical atmosphere, which
causes a change in the chemical functionality of the microstructures. The
chemical atmosphere can be a gas, liquid or solid that is provided on the
substrate surface. The method can be used to fabricate or modify
microfluidic systems.
Une méthode pour former simultanément des microstructures en substrats et changer leur caractère chimique. La méthode implique d'exposer une partie extérieure d'un substrat à la source lumineuse, qui est forte assez et de la longueur d'onde appropriée pour causer l'ablation du substrat. L'ablation du substrat est commandée pour former des microstructures là-dedans, comme des canaux. L'ablation est conduite sous une atmosphère chimique, qui cause un changement de la fonctionnalité chimique des microstructures. L'atmosphère chimique peut être un gaz, un liquide ou un solide qui sont fournis sur la surface de substrat. La méthode peut être employée pour fabriquer ou modifier les systèmes microfluidic.
