An exposure apparatus having an illumination system which applies an
exposure energy beam to a mask on which a pattern for transfer is formed,
and a stage system for positioning a substrate to which the pattern of the
mask is transferred, is characterized in that: a gas supply apparatus for
supplying a gas of a high transmittivity with respect to the exposure
energy beam, and having good thermal conductivity, to at least a portion
of an optical path of the exposure energy blam, and a gas recovery
apparatus for recovering at least a portion of the gas after the gas is
supplied to the optical path of the exposure energy beam from the gas
supply apparatus, are provided.
Μια συσκευή έκθεσης που έχει ένα σύστημα φωτισμού που εφαρμόζει μια ενεργειακή ακτίνα έκθεσης σε μια μάσκα στην οποία ένα σχέδιο για τη μεταφορά διαμορφώνεται, και ένα σκηνικό σύστημα για ένα υπόστρωμα στο οποίο το σχέδιο της μάσκας μεταφέρεται, χαρακτηρίζεται σε αυτή: αέριο παρέχετε τις συσκευές για το α αέριο ενός υψηλού transmittivity όσον αφορά την ενεργειακή ακτίνα έκθεσης, και την καλή θερμική αγωγιμότητα, τουλάχιστον σε μια μερίδα μιας οπτικής πορείας της ενέργειας έκθεσης blam, και μια αέριο συσκευή αποκατάστασης για τουλάχιστον μια μερίδα αέριο αφότου αέριο παρέχεται στην οπτική πορεία της ενεργειακής ακτίνας έκθεσης από παρέχει αέριο τις συσκευές, παρέχεται.
