Method for calibrating a lithographic projection apparatus and apparatus capable of applying such a method

   
   

A method for calibrating a lithographic projection apparatus includes identifying a set of two or more reference positions of one a first and a second object table WTa, WTb or MT with a first detection system and simultaneously measuring those reference positions with a first position measuring system, identifying the same set of reference positions of said one object table with a second detection system and simultaneously measuring those reference positions with a second position measuring system, and correlating said first and said second position measuring systems using the measurements of the reference positions.

Μια μέθοδος για μια λιθογραφική συσκευή προβολής περιλαμβάνει τον προσδιορισμό ενός συνόλου δύο ή περισσότερων θέσεων αναφοράς του ενός ένας πρώτος και δεύτερος πίνακας αντικειμένου WTa, WTb ή ΑΜ με ένα πρώτο σύστημα ανίχνευσης και ταυτόχρονα τη μέτρηση εκείνων των θέσεων αναφοράς με μια πρώτη θέση που μετρά το σύστημα, που προσδιορίζει το ίδιο σύνολο θέσεων αναφοράς εν λόγω έναν πίνακα αντικειμένου με ένα δεύτερο σύστημα ανίχνευσης και ταυτόχρονα που μετρά εκείνες τις θέσεις αναφοράς με μια δεύτερη θέση μετρώντας το σύστημα, και το συσχετισμό εν λόγω πρώτα και την εν λόγω δεύτερη θέση μετρώντας τα συστήματα χρησιμοποιώντας τις μετρήσεις των θέσεων αναφοράς.

 
Web www.patentalert.com

< Projection exposure apparatus and method

< Memory control circuit and control system for a plurality of memories interconnected via plural logic interfaces

> Method and apparatus for traffic flow control in data switches

> Automatic power control and laser slope efficiency normalizing circuit

~ 00105