The present invention relates to a preparation method for a lithographic
printing plate, which comprises forming a presensitized plate by coating a
photosensitive layer or thermosensitive layer on an aluminum substrate
treated with an aqueous solution after optionally anodized and developing
the presensitized plate with a developer comprising no silicate, wherein
the aqueous solution comprises at least one compound selected from the
group consisting of nitrite group-containing compound, fluorine
atom-containing compound and phosphorous atom-containing compound, in the
proviso that when the at least one compound is fluorine atom-containing
compound, the treated aluminum substrate has a surface which satisfies the
formula: 0.30.ltoreq.A/(A+B).ltoreq.0.90 (wherein, A represents peak area
of fluorine atom (1S) (counts.multidot.eV/sec) determined by X ray
Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA), and B represents peak
area of aluminum atom (2P) (counts.multidot.eV/sec) determined by X ray
ESCA), and when the at least one compound is phosphorous atom-containing
compound, the treated aluminum substrate has a surface which satisfies the
formula: 0.05.ltoreq.A/(A+B).ltoreq.0.70 (wherein, A represents peak area
of phosphorous atom (2P) (counts.multidot.eV/sec) determined by X ray
ESCA, and B represents peak area of aluminum atom (2P)
(counts.multidot.eV/sec) determined by X ray ESCA).
Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια μέθοδο προετοιμασιών για ένα λιθογραφικό πιάτο εκτύπωσης, το οποίο περιλαμβάνει τη διαμόρφωση ενός presensitized πιάτου με την επένδυση ενός φωτοευαίσθητου στρώματος ή του thermosensitive στρώματος σε ένα υπόστρωμα αργιλίου που αντιμετωπίζεται με ένα διάλυμα ύδατος μετά από προαιρετικά και την ανάπτυξη του presensitized πιάτου με έναν υπεύθυνο για την ανάπτυξη μην περιλαμβάνοντας κανένα πυριτικό άλας, όπου το διάλυμα ύδατος περιλαμβάνει τουλάχιστον μια ένωση που επιλέγεται από την ομάδα που αποτελείται από την ομάδα-περιέχοντας ένωση νιτρώδους άλατος, άτομο-περιέχοντας σύνθετη και φωσφορούχος άτομο-περιέχοντας ένωση φθορίου, στη ρήτρα ότι όταν η τουλάχιστον μια ένωση είναι άτομο-περιέχοντας ένωση φθορίου, το αντιμετωπισμένο υπόστρωμα αργιλίου έχει μια επιφάνεια που ικανοποιεί τον τύπο: 0.30.ltoreq.A/(A+B).ltoreq.0.90 (όπου, το Α αντιπροσωπεύει τη μέγιστη περιοχή του ατόμου φθορίου (1S) (counts.multidot.eV/$L*SEC) που καθορίζεται από τη φασματοσκοπία ηλεκτρονίων ακτίνων Χ για τη χημική ανάλυση (ESCA), και το β αντιπροσωπεύει τη μέγιστη περιοχή του ατόμου αργιλίου (2P) (counts.multidot.eV/$L*SEC) που καθορίζεται από την ακτίνα ESCA Χ), και όταν η τουλάχιστον μια ένωση είναι φωσφορούχος άτομο-περιέχοντας την ένωση, το αντιμετωπισμένο υπόστρωμα αργιλίου έχει μια επιφάνεια που ικανοποιεί τον τύπο: 0.05.ltoreq.A/(A+B).ltoreq.0.70 (όπου, το Α αντιπροσωπεύει τη μέγιστη περιοχή του φωσφορούχου ατόμου (2P) (counts.multidot.eV/$L*SEC) που καθορίζεται από την ακτίνα ESCA Χ, και το β αντιπροσωπεύει τη μέγιστη περιοχή του ατόμου αργιλίου (2P) (counts.multidot.eV/$L*SEC) που καθορίζεται από την ακτίνα ESCA Χ).
