An optical structure is fabricated by forming an active layer including a
photodefinable material on a substrate or on another underlying layer,
forming an upper layer above the active layer, and then patterning the
active layer by selective application of radiation through the upper
layer. The upper layer is substantially transparent to radiation of the
type required to activate the photodefinable material in the active layer.
Eine optische Struktur wird fabriziert, indem man eine aktive Schicht einschließlich ein photodefinable Material auf einem Substrat oder auf einer anderen zugrundeliegenden Schicht bildet, eine obere Schicht über der aktiven Schicht bildet, und dann die aktive Schicht durch vorgewählte Anwendung der Strahlung durch die obere Schicht patterning. Die obere Schicht ist zur Strahlung der Art im wesentlichen transparent, die erfordert wird, um das photodefinable Material in der aktiven Schicht zu aktivieren.
