Provided are a thin film magnetic head capable of local minimization of a
pole width with high accuracy, a method of manufacturing the same, and a
method of forming a magnetic layer pattern, which is capable of forming a
long, narrow magnetic layer pattern with high accuracy. A precursory
magnetic layer is formed so that the layer has a greater width and an edge
extending in a width direction of a rear edge portion of the layer forms a
straight line, and then the precursory magnetic layer is selectively
etched by RIE using as a mask a top magnetic layer (a first pole front end
portion) formed on the precursory magnetic layer. The use of this method
allows forming a second pole front end portion having a locally minimum
uniform width (e.g., 0.1 .mu.m) and a straight edge extending in a width
direction of a rear edge surface.
Vorausgesetzt ein magnetischer Kopf des Dünnfilms sind, der zur lokalen Reduzierung einer Pfostenbreite mit hoher Genauigkeit fähig sind, eine Methode der Produktion dasselbe und eine Methode der Formung eines magnetischen Schichtmusters, das zur Formung eines langen, schmalen magnetischen Schichtmusters mit hoher Genauigkeit fähig ist. Eine precursory magnetische Schicht wird gebildet, damit die Schicht eine grössere Breite hat und ein Rand, der in einer Breite Richtung eines Teils des hinteren Randes der Schicht verlängert, eine gerade Geraden bildet, und dann wird die precursory magnetische Schicht selektiv von RIE mit als Schablone geätzt, die eine obere magnetische Schicht (ein erster Teil vorderes Ende des Pfostens) auf der precursory magnetischen Schicht sich bildete. Der Gebrauch von dieser Methode darf einen zweiten Pfosten bilden der vorderes Ende Teil, der eine am Ort minimale konstante Breite hat (z.B., 0.1 mu.m) und einen geraden Rand, der in einer Breite Richtung einer Oberfläche des hinteren Randes verlängert.
