The following resist composition of chemical amplification type, which is
excellent in transparency to light beams and dry etching properties and
gives a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, evenness,
heat resistance, etc.
A resist composition which comprises a fluoropolymer (A) comprising monomer
units (a) of a fluorovinyl monomer having --CF.sub.2 --OR (wherein R is a
C.sub.1-10 alkyl group) and monomer units (b) of an alicyclic ethylenic
monomer, an acid-generating compound (B) which generates an acid upon
irradiation with light, and an organic solvent (C).
Die folgenden widersteht Aufbau der chemischen Verstärkung Art, die im Transparent zu den Lichtstrahlen und zu den trockenen Radierung Eigenschaften ausgezeichnet ist und ein widerstehenmuster gibt, das in der Empfindlichkeit, in der Auflösung, in der Ebenheit, in der Hitzebeständigkeit, in usw. ausgezeichnet ist. Ein widerstehenaufbau, der ein fluoropolymer enthält (a), das Monomeremaßeinheiten (a) von einer fluorovinyl Monomere enthält, die hat -- CF.sub.2 --OR (worin R eine Alkylgruppe C.sub.1-10 ist) und Monomeremaßeinheiten (b) einer alizyklischen äthylenischen Monomere, des Säure-erzeugenden Mittels (b), das eine Säure nach Bestrahlung mit Licht erzeugt und des organischen Lösungsmittels (c).
