A radiation sensitive composition useful as a photoresist containing a
resin composition and a radiation sensitive material, wherein the resin
composition comprises a mixture of two or more resins different from each
other by at least 0.03 in refractive index or comprises a resin component
of an alkali-soluble resin and a resin additive of a resin working as a
dissolution inhibitor for the radiation sensitive composition, such as an
acrylic polymer, a methacrylic polymer or a styrenic polymer. A
dissolution rate in a 2.38 weight-% aqueous tetramethylammonium hydroxide
solution of the radiation sensitive composition is preferably 5000
.ANG./min or less. Use of these resin compositions enable one to reduce
the amount of the quinonediazide radiation sensitive agents to be used and
obtain a radiation sensitive composition which has both high sensitivity
and highly normalized film remaining characteristics.
Состав радиации чувствительный полезный как фоторезист содержа состав смолаы и материал радиации чувствительный, при котором состав смолаы состоит из смеси двух или несколько смола отличающихся от по крайней мере 0.03 в рефрактивном индексе или состоит из компонента смолаы alkali-soluble смолаы и добавки смолаы деятельности смолаы как и АБС битор растворения для состава радиации чувствительного, such as акриловый полимер, метакрилового полимера или styrenic полимера. Тариф растворения в разрешении окисоводопода tetramethylammonium 2.38 vesov-% водяном состава радиации чувствительного ANG./min предпочтительн 5000 или. Польза этих составов смолаы позволяет одно уменьшить количество веществ радиации quinonediazide чувствительных, котор нужно использовать и получить состав радиации чувствительный имеет и высокую чувствительность и характеристики высоки normalized пленки остальные.
