When forming a beam shaped body by deposition using a focused ion beam
device on the end of a sample, the present invention adopts a beam shaped
film pattern formation method for irradiating the focused ion beam to a
narrow strip shaped region from an open end of the sample to an outer
space, and depositing a beam shaped film on the narrow strip shaped
region, and sequentially shifting the irradiation region in a tip end
direction to cause formation of a beam shaped body by growth of thin
deposition layers, and causing formation of a deposition film of desired
thickness on the thin deposition layers on the beam shaped body.
Κατά διαμόρφωση ενός διαμορφωμένου ακτίνα σώματος από την απόθεση που χρησιμοποιεί μια συσκευή ιονικών ακτίνων στο τέλος ενός δείγματος, παρούσα την εφεύρεση υιοθετεί μια διαμορφωμένη ακτίνα μέθοδο σχηματισμού σχεδίων ταινιών για την ιονική ακτίνα σε μια στενή διαμορφωμένη λουρίδα περιοχή από ένα ανοικτό τέλος του δείγματος σε ένα εξωτερικό διάστημα, και μια διαμορφωμένη ακτίνα ταινία στη στενή διαμορφωμένη λουρίδα περιοχή, και διαδοχικά την περιοχή ακτινοβολίας σε μια κατεύθυνση τελών ακρών για να προκαλέσει το σχηματισμό ενός διαμορφωμένου ακτίνα σώματος από την αύξηση των λεπτών στρωμάτων απόθεσης, και το σχηματισμό μιας ταινίας απόθεσης του επιθυμητού πάχους στα λεπτά στρώματα απόθεσης στο διαμορφωμένο ακτίνα σώμα.
