A mask for use in a process for curing a photosensitive material. The mask
comprises a structure having a top side and a bottom side opposite to the
top side, and a pattern of transparent regions and opaque regions, wherein
the opaque regions comprise at least first opaque regions having a first
opacity and second opaque regions having a second opacity different from
the first opacity. The opaque regions can comprise a substantially
continuous pattern, a substantially semi-continuous pattern, a pattern
formed by a plurality of discrete areas, or any combination thereof. The
opaque regions can comprise a gradient opacity that gradually changes in
at least one direction. The mask can have a three-dimensional topography
comprising, for example, a pattern of protrusions extending from the
bottom side of the mask and/or the top side of the mask. The protrusions
can form a substantially continuous pattern, a substantially
semi-continuous pattern, a discrete pattern, or any combination thereof.
The pattern of protrusions can correlate with the pattern of transparent
and opaque regions to form a combined non-random and repeating pattern.
The mask can comprise a composite structure, wherein the pattern of
transparent and opaque regions can be independent and separable from the
pattern of protrusions. A process for making the mask can comprise
providing a thin transparent material of substantially uniform thickness,
forming a pattern of opaque regions on the material according to a first
predetermined pattern, and embossing the material according to a second
predetermined pattern.
Uma máscara para o uso em um processo para curar um material photosensitive. A máscara compreende uma estrutura que têm um lado superior e um lado inferior opostos ao lado superior, e um teste padrão de regiões transparentes e de regiões opacas, wherein as regiões opacas compreendem ao menos as primeiras regiões opacas que têm uma primeira opacidade e as regiões em segundo opacas que têm uma segunda opacidade diferente da primeira opacidade. As regiões opacas podem compreender um teste padrão substancialmente contínuo, um teste padrão substancialmente semi-continuous, um teste padrão dado forma por um plurality de áreas discretas, ou toda a combinação disso. As regiões opacas podem compreender uma opacidade do gradient que mude gradualmente ao menos em um sentido. A máscara pode ter um topography tridimensional compreender, para o exemplo, um teste padrão das saliências que estendem do lado inferior da máscara e/ou do lado superior da máscara. As saliências podem dar forma a um teste padrão substancialmente contínuo, a um teste padrão substancialmente semi-continuous, a um teste padrão discreto, ou a toda a combinação disso. O teste padrão das saliências pode correlacionar com o teste padrão das regiões transparentes e opacas para dar forma a um teste padrão non-aleatório e repetindo combinado. A máscara pode compreender uma estrutura composta, wherein o teste padrão de regiões transparentes e opacas pode ser independente e separável do teste padrão das saliências. Um processo para fazer a máscara pode compreender fornecer um material transparente fino da espessura substancialmente uniforme, dando forma a um teste padrão de regiões opacas no material de acordo com um primeiro predeterminou o teste padrão, e gravando o material de acordo com umas segundas predeterminou o teste padrão.
