Copolymer structures are formed by exposing a substrate with an imaging
layer thereon to two or more beams of selected wavelengths to form
interference patterns at the imaging layer to change the wettability of
the imaging layer in accordance with the interference patterns. A layer of
a selected block copolymer is deposited onto the exposed imaging layer and
annealed to separate the components of the copolymer in accordance with
the pattern of wettability and to replicate the pattern of the imaging
layer in the copolymer layer. Stripes or isolated regions of the separated
components may be formed with periodic dimensions in the range of 100 nm
or less.
De structuren van het copolymeer worden gevormd door een substraat met een weergavelaag aan twee of meer stralen van geselecteerde golflengten daarop bloot te stellen om interferentiepatronen bij de weergavelaag te vormen om de bevochtigbaarheid van de weergavelaag overeenkomstig de interferentiepatronen te veranderen. Een laag van een geselecteerd blokcopolymeer wordt gedeponeerd op de blootgestelde weergavelaag en onthard om de componenten van het copolymeer overeenkomstig het patroon van bevochtigbaarheid te scheiden en het patroon van de weergavelaag in de copolymeerlaag te herhalen. De strepen of de geïsoleerde gebieden van de gescheiden componenten kunnen met periodieke afmetingen in de waaier van 100 NM worden gevormd of minder.
