Semiconductor device and method of fabricating the same

   
   

A semiconductor device including multiple high-voltage drive transistors in its output section is improved in electrostatic withstand voltage by connecting electrostatic protection transistors in parallel with the high-voltage drive transistors connected to the output pads. The drain withstand voltage of the electrostatic protection transistors is made lower than the drain withstand voltage of the high-voltage drive transistors. In addition, the channel length of electrostatic protection transistors is made short to enable efficient bipolar operation of the electrostatic protection transistors.

Un dispositivo a semiconduttore compreso i transistori di azionamento ad alta tensione multipli nella relativa sezione dell'uscita è migliorato nella tensione elettrostatica di withstand collegando i transistori elettrostatici di protezione in parallelo con i transistori di azionamento ad alta tensione collegati ai rilievi dell'uscita. La tensione di withstand dello scolo dei transistori elettrostatici di protezione è resa più bassa della tensione di withstand dello scolo dei transistori di azionamento ad alta tensione. In più, la lunghezza di scanalatura dei transistori elettrostatici di protezione è fatta bruscamente per permettere il funzionamento bipolare efficiente dei transistori elettrostatici di protezione.

 
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