The present invention provides a wavemeter for an ultraviolet laser capable
of long life beam quality monitoring in a pulsed ultraviolet laser system
at pulse rates greater than 2000 Hz at pulse energies at 5 mJ or greater.
In a preferred embodiment an enhanced illumination configuration reduces
per pulse illumination of an etalon by a factor of 28 compared to a
popular prior art configuration. Optics are provided in this embodiment
which reduce light entering the etalon to only that amount needed to
illuminate a linear photo diode array positioned to measure interference
patterns produced by the etalon. In this preferred embodiment two sample
beams produced by reflections from two surfaces of a beam splitter are
diffused by a defractive diffuser and the output of the defractive
diffuser is focused on two separate secondary diffusers effectively
combining both beams in two separate spectrally equivalent diffuse beams.
One beam is used for wavelength and bandwidth measurement and the other
beam is used for calibration. In preferred embodiments an etalon chamber
contains nitrogen with an oxygen concentration of between 1.6 and 2.4
percent.
De onderhavige uitvinding verstrekt een golfmeter voor een ultraviolette laser geschikt voor lange de kwaliteit van de het levensstraal controle in een gepulseerd ultraviolet lasersysteem aan polsslag groter dan 2000 Herz bij impulsenergieën bij 5 mJ of groter. In een aangewezen belichaming vermindert een verbeterde verlichtingsconfiguratie per impulsverlichting van een etalon door een factor van 28 in vergelijking met een populaire vroegere kunstconfiguratie. De optica wordt verstrekt in deze belichaming die licht vermindert dat etalon ingaat aan slechts dat bedrag nodig om een lineaire serie te verlichten van de fotodiode die wordt geplaatst om interferentiepatronen te meten die door etalon worden veroorzaakt. In deze aangewezen belichaming worden twee steekproefstralen die door bezinningen van twee oppervlakten van een straalsplitser worden geproduceerd verspreid door een defractive verspreider en de output van de defractive verspreider wordt geconcentreerd op twee afzonderlijke secundaire verspreiders effectief combinerend beide stralen in twee scheidt spectraal gelijkwaardige diffuse stralen. Één straal wordt gebruikt voor golflengte en bandbreedtemeting en de andere straal wordt gebruikt voor kaliberbepaling. In aangewezen belichamingen bevat een etalonkamer stikstof met een zuurstofconcentratie van tussen 1,6 en 2,4 percenten.
