A lithographic projection apparatus according to one embodiment of the
invention includes a projection system having a plurality of optical
elements or sensors mounted on a frame. The frame includes support
portions made of a material (e.g. a glass ceramic) having a coefficient of
thermal expansion of less than or approximately equal to
0.1.times.10.sup.-6 K.sup.-1.
Un appareillage lithographique de projection selon un mode de réalisation de l'invention inclut un système de projection ayant une pluralité d'éléments ou de sondes optiques montés sur une armature. L'armature inclut des parties de soutien faites d'un matériel (par exemple un en céramique de verre) ayant un coefficient de dilatation thermique de moins qu'ou approximativement d'égal à 0.1.times.10.sup.-6 K.sup.-1.
