A photosensitive polymer having a protecting group including a fused
aromatic ring, and a photoresist composition including the photosensitive
polymer are provided. The photosensitive polymer has an acid-labile
protecting group at its polymer backbone, the acid-labile protecting group
including a fused aromatic ring having formula:
##STR1##
where R.sub.1 is hydrogen atom or alkyl group having from 1 to 4 carbon
atoms; X is hydrogen atom, halogen, alkyl, or alkoxy; and y is an integer
from 1 to 3, wherein the fused aromatic ring is a liner ring or branched
ring with y greater than or equal to 2.
A photoresist composition is also provided which includes the
photosensitive polymer and a photoacid generator (PAG).
Een fotogevoelig polymeer een beschermende groep met inbegrip van een gesmolten aromatische ring hebben, en een photoresist samenstelling die met inbegrip van het fotogevoelige polymeer worden verstrekt. Het fotogevoelige polymeer heeft een zuur-labiele beschermende groep bij zijn polymeerbackbone, de zuur-labiele beschermende groep met inbegrip van een gesmolten aromatische ring die formule heeft: ## STR1 ## waar R.sub.1 waterstofatoom of alkyl groep die van 1 tot 4 koolstofatomen is hebben; X is waterstofatoom, halogeen, alkyl, of alkoxy; en y is een geheel van 1 tot 3, waarin de gesmolten aromatische ring een voeringsring of vertakte ring met y groter dan of gelijk aan 2 is. Een photoresist samenstelling wordt ook verstrekt welke het fotogevoelige polymeer en een photoacidgenerator (PAG) omvat.
