A structure and method of fabricating a magnetic read head, comprises
forming a fill layer for a magnetic read head gap using atomic layer
deposition (ALD). The fill layer comprises an insulator, preferably
aluminum oxide, aluminum nitride, mixtures thereof and layered structures
thereof. Materials having higher thermal conductivity than aluminum oxide,
such as berylium oxide and boron nitride, can also be employed in layers
within an aluminum oxide structure. The thickness of the ALD-formed head
gap fill layer is between approximately 5 nm and 100 nm, preferably
between approximately 10 nm and 40 nm.
Uma estrutura e um método de fabricar uma cabeça lida magnética, compreendem dar forma a uma camada da suficiência para uma abertura magnética da cabeça lida usando o deposition atômico da camada (ALD). A camada da suficiência compreende um isolador, um óxido preferivelmente de alumínio, um nitride de alumínio, umas misturas disso e umas estruturas mergulhadas disso. Os materiais que têm um conductivity térmico mais elevado do que o óxido de alumínio, tal como o óxido do berylium e o nitride do boro, podem também ser empregados nas camadas dentro de uma estrutura do óxido de alumínio. A espessura da camada principal ALD-dada forma da suficiência da abertura está entre aproximadamente 5 nm e 100 nm, preferivelmente entre aproximadamente 10 nm e 40 nm.
