A method of fabricating and the structure of a micro-electromechanical
switch (MEMS) device provided with self-aligned spacers or bumps is
described. The spacers are designed to have an optimum size and to be
positioned such that they act as a detent mechanism for the switch to
minimize problems caused by stiction. The spacers are fabricated using
standard semiconductor techniques typically used for the manufacture of
CMOS devices. The present method of fabricating these spacers requires no
added depositions, no extra lithography steps, and no additional etching.
Un metodo di fabbricare e la struttura di un dispositivo micro-elettromeccanico dell'interruttore (MEMS) hanno fornito i distanziatori auto-allineati o gli urti è descritto. I distanziatori sono destinati per avere un formato ottimale e per essere posizionati tali che fungono da meccanismo del dente d'arresto affinchè l'interruttore minimizzino i problemi causati dallo stiction. I distanziatori sono fabbricati usando le tecniche standard a semiconduttore usate tipicamente per la fabbricazione di dispositivi di CMOS. Il metodo attuale di fabbricare questi distanziatori non richiede i depositi aggiunti, punti supplementari di litografia ed acquaforte supplementare.
