Method of fabricating electronic interconnect devices using direct imaging of dielectric composite material

   
   

An improved method of fabricating an electronic interconnect device using direct imaging of dielectric composite material by the inclusion of a conducting material in the composite material that becomes non-conducting through exposure to electromagnetic radiation. The conducting material generally comprises singe-wall carbon nanotubes. The dielectric composite material comprising carbon nanotubes is selectively exposed to electromagnetic radiation so that defined portions of the composite are conducting and other portions are insulating.

Een betere methode om een elektronisch interconnect te vervaardigen apparaat dat directe weergave van diƫlektrisch samengesteld materiaal gebruikt door de opneming van een het leiden materiaal in het samengestelde materiaal dat door blootstelling aan elektromagnetische straling niet-geleidend wordt. Het het leiden materiaal bestaat over het algemeen uit schroeiplek-muur koolstof nanotubes. Het diƫlektrische samengestelde materiaal dat uit koolstof bestaat wordt nanotubes selectief blootgesteld aan elektromagnetische straling zodat de bepaalde gedeelten van de samenstelling leiden en andere gedeelten isoleren.

 
Web www.patentalert.com

< Spatially controlled, in situ synthesis of polymers

< 11-O-methylgeldanamycin compounds

> Clinically intelligent diagnostic devices and methods

> Resist composition with enhanced X-ray and electron sensitivity

~ 00120