An acetal group containing norbornene-based copolymer useful for a
photoresist composition, a method for producing the same, and a
photoresist composition containing the same are disclosed. According to
the present invention, a copolymer of the present invention has excellent
transparency at a wavelength of not more than about 250 nm, excellent
resolution, excellent sensitivity, dry etching resistance and excellent
adhesion to the substrate.
Um grupo do acetal que contêm o copolymer norbornene-baseado útil para uma composição do photoresist, um método para produzir o mesmo, e uma composição do photoresist que contem o mesmo são divulgados. De acordo com a invenção atual, um copolymer da invenção atual tem a transparência excelente em um wavelength não mais do que de aproximadamente 250 nm, definição excelente, sensibilidade excelente, resistência seca gravura a água-forte e adesão excelente à carcaça.
