Method for chemical vapor deposition of single walled carbon nanotubes

   
   

A method of fabricating a nanotube structure which includes providing a substrate, depositing a supporting layer and an active catalyst film layer onto the substrate, and forming at least one nanotube on the surface of the substrate using a reaction chamber having a growth temperature of less than 850.degree. C.

Een methode om een nanotubestructuur te vervaardigen die het verstrekken van een substraat, het deponeren van een ondersteunende laag en een actieve laag van de katalysatorfilm op het substraat, en het vormen van minstens één nanotube op de oppervlakte van het substraat gebruikend een reactiekamer omvat die een de groeitemperatuur van minder heeft dan 850.degree. C.

 
Web www.patentalert.com

< Method and system for rapid biomolecular recognition of amino acids and protein sequencing

< High mass throughput particle generation using multiple nozzle spraying

> Light-emitting nanoparticles and method of making same

> Ion-exchange materials with improved ion conductivity

~ 00120