A method and an apparatus have been developed to fabricate large area
uniform silicon cone arrays using different kinds of ion-beam sputtering
methods. The apparatus includes silicon substrate as the silicon source,
and metal foils are used as catalyst. Methods of surface modification of
the as-synthesized silicon cones for field emission application have also
been developed, including hydrofluoric acid etching, annealing and low
work-function metal coating. Nano-structure modification based on silicon
cones takes advantage of the fact that the cone tip consists of
metal/metal siliside, which can be used as catalyst and template for
nanowires growth. A method and an apparatus have been developed to grow
silicon oxide/silicon nanowires on tips of the silicon cones.
Eine Methode und ein Apparat sind entwickelt worden, um großer Bereich konstante Silikon-Kegelreihen mit unterschiedlichen Arten der Ionenbündelspritzenmethoden zu fabrizieren. Der Apparat schließt Silikonsubstrat als die Silikonquelle mit ein, und Metallfolien werden als Katalysator benutzt. Methoden der Oberflächenänderung der wie-synthetisierten Silikonkegel für fangen Emissionanwendung haben auch sich entwickelt, einschließlich Radierung der flußsauren Säure, Ausglühen und niedrige Arbeitenfunktion Metallschicht auf. die Nano-Struktur Änderung, die auf Silikonkegeln basiert, zieht Nutzen aus der Tatsache, die die Kegelspitze aus metal/metal siliside besteht, das als Katalysator und Schablone für nanowires Wachstum verwendet werden kann. Eine Methode und ein Apparat sind entwickelt worden, um Silikon oxide/silicon nanowires auf Spitzen der Silikonkegel zu wachsen.
