The present invention provides systems, apparatus and methods for selective
applying energy to a patient's dermis tissue to generate the growth of new
collagen in this tissue, while minimizing the effect on the outer
epidermis layer, thereby minimizing or suppressing the wound healing phase
of the procedure. In one aspect of the invention, a method includes
positioning a first electrode adjacent to, or in contact with, a region on
or within a patient's skin, and applying a sufficient high frequency
voltage between the first electrode and a second electrode to create a
heat injury to a target tissue within the patient's dermis layer without
ablating the epidermis layer overlying the target tissue. Typically, the
voltage applied to the first and second electrodes is sufficient to induce
heating of the dermis layer to about 60.degree.-80.degree. C., preferably
about 65.degree.-75.degree. C. This induced heating causes the patient's
body to undergo a wound healing response in the slightly inflamed tissue
of the dermis. The wound healing process involves the generation of
neo-collagen in the dermis layer, which fills in the wrinkle in the
patient's skin.
Η παρούσα εφεύρεση παρέχει τα συστήματα, τις συσκευές και τις μεθόδους για την εκλεκτική ισχύουσα ενέργεια dermis ενός ασθενή στον ιστό για να παραγάγει την αύξηση του νέου κολλαγόνου σε αυτόν τον ιστό, ελαχιστοποιώντας την επίδραση στο εξωτερικό στρώμα επιδερμίδων, με αυτόν τον τρόπο ελαχιστοποιώντας ή καταστέλλοντας τη θεραπεύοντας φάση πληγών της διαδικασίας. Σε μια πτυχή της εφεύρεσης, μια μέθοδος περιλαμβάνει τον προσδιορισμό θέσης ενός πρώτου ηλεκτροδίου δίπλα, ή σε επαφή με, σε μια περιοχή σε ή μέσα στο δέρμα ενός ασθενή, και την εφαρμογή μιας ικανοποιητικής τάσης υψηλής συχνότητας μεταξύ του πρώτου ηλεκτροδίου και ενός δεύτερου ηλεκτροδίου για να δημιουργηθεί ένας τραυματισμός θερμότητας σε έναν ιστό στόχων μέσα στο dermis του ασθενή στρώμα χωρίς αφαίρεση του στρώματος επιδερμίδων επικαλύπτοντας τον ιστό στόχων. Χαρακτηριστικά, η τάση που εφαρμόζεται στα πρώτα και δεύτερα ηλεκτρόδια είναι επαρκής για να προκαλέσει τη θέρμανση του dermis στρώματος σε περίπου 60.degree.-80.degree. Γ., κατά προτίμηση για 65.degree.-75.degree. γ. Αυτή η προκληθείσα θέρμανση αναγκάζει το σώμα του ασθενή για να υποβληθεί σε μια θεραπεύοντας απάντηση πληγών στον ελαφρώς άκαυστο ιστό dermis. Η θεραπεύοντας διαδικασία πληγών περιλαμβάνει την παραγωγή του νεω-κολλαγόνου στο dermis στρώμα, το οποίο συμπληρώνει τη ρυτίδα στο δέρμα του ασθενή.
