A method of manufacturing a projection optical system (37) for projecting a
pattern from a reticle to a photosensitive substrate, comprising a
surface-shape-measuring step wherein the shape of an optical test surface
(38) of an optical element (36) which is a component in the projection
optical system is measured by causing interference between light from the
optical surface (38) and light from an aspheric reference surface (70)
while the optical test surface (38) and said reference surface (70) are
held in integral fashion in close mutual proximity. A
wavefront-aberration-measuring step is included, wherein the optical
element is assembled in the projection optical system and the wavefront
aberration of the projection optical system is measured. A surface
correction calculation step is also included wherein the amount by which
the shape of the optical test surface should be corrected is calculated
based on wavefront aberration data obtained at the
wavefront-aberration-measuring step and surface shape data obtained from
the surface-shape-measuring step. The method also includes a surface shape
correction step wherein the shape of the optical test surface is corrected
based on calculation performed at the surface correction calculation step.
Surface shape measuring interferometer systems and
wavefront-aberration-measuring interferometer systems (22J-22Q) used in
performing the manufacturing method are also disclosed.
Un método de fabricar un sistema óptico de la proyección (37) para proyectar un patrón de un retículo a un substrato fotosensible, abarcando un paso superficie-forma-que mide en donde la forma de una superficie óptica de la prueba (38) de un elemento óptico (36) que sea un componente en el sistema óptico de la proyección es medida causando interferencia entre la luz de la superficie óptica (38) y la luz de una superficie de referencia aspheric (70) mientras que la superficie óptica de la prueba (38) y la superficie de referencia dicha (70) se llevan a cabo en la manera integral en proximidad mutua cercana. Un paso frente de onda-aberracio'n-que mide es incluido, en donde el elemento óptico está montado en el sistema óptico de la proyección y la aberración del frente de onda del sistema óptico de la proyección se mide. Un paso superficial del cálculo de la corrección también se incluye en donde se calcula la cantidad por la cual la forma de la superficie óptica de la prueba debe ser corregida basó en los datos de la aberración del frente de onda obtenidos en los datos del paso frente de onda-aberracio'n-que miden y de la forma de la superficie obtenidos del paso superficie-forma-que mide. El método también incluye un paso superficial de la corrección de la forma en donde la forma de la superficie óptica de la prueba se corrige basó en el cálculo realizado en el paso superficial del cálculo de la corrección. Los sistemas del interferómetro de la forma que miden superficial y los sistemas del interferómetro frente de onda-aberracio'n-que miden (22J-22Q) usados en la ejecución del método de fabricación también se divulgan.
