Methods and apparatus for controllably dispensing fluids within wafer track
modules using rotatable liquid dispense arms and nozzles. The fluid
dispense apparatus may be specifically selected for developing a
photoresist-coated substrate. A series of one or more rotatable arms can
be mounted adjacent to a mounted substrate within a develop module,
wherein each arm supports a dispense nozzle that is connected to a fluid
source. The dispense nozzle may be formed with a plurality of nozzle tips
for dispensing selected developer and rinse fluids. Each rotatable arm can
be configured to rotate about its longitudinal axis to selectively
position the dispense nozzle between various dispense positions and
non-dispense positions to reduce risk of dripping solution onto the
substrate. Methods for developing photoresist-coated semiconductor wafers
are also provided herein using developer and rinse fluid dispense
apparatus with a dispense arm that is rotatable about its longitudinal
axis. While in a dispense position, the arm or nozzle itself can be
rotated so as to direct nozzle tips towards a wafer surface which
facilitates fluid dispense onto the surface. While in the non-dispense
position, the nozzle tips may be directed away from the wafer surface to
reduce the likelihood of any undesired drips falling thereon.
Los métodos y los aparatos para los líquidos controllably que dispensan dentro de los módulos de la pista de la oblea que usan el líquido rotativo dispensan los brazos y los inyectores. El líquido dispensa el aparato se puede seleccionar específicamente para desarrollar un substrato photoresist-revestido. Una serie de unos o más brazos rotativos se puede montar adyacente a un substrato montado dentro de un módulo del convertir, en donde cada brazo apoya un inyector del dispensar que esté conectado con una fuente flúida. El inyector del dispensar se puede formar con una pluralidad de extremidades de inyector para dispensar los líquidos seleccionados del revelador y de la aclaración. Cada brazo rotativo se puede configurar para rotar sobre su eje longitudinal para colocar selectivamente el inyector del dispensar entre vario dispensa posiciones y no-dispensa posiciones para reducir el riesgo de gotear la solución sobre el substrato. Los métodos para desarrollar las obleas de semiconductor photoresist-revestidas también se proporcionan adjunto usando el revelador y el líquido de la aclaración dispensa el aparato con un brazo del dispensar que sea rotativo sobre su eje longitudinal. Mientras que en una posición del dispensar, el brazo o el inyector sí mismo puede ser rotado para dirigir el inyector las extremidades hacia una superficie de la oblea que facilite el líquido dispensen sobre la superficie. Mientras que en la posición del no-dispensar, las extremidades de inyector se pueden ordenar lejos de la superficie de la oblea para reducir la probabilidad de cualquier goteo indeseado que cae sobre eso.
