Nano structures are formed in a glass layer on a substrate by defining a
first structure in the glass layer using a low energy radiation exposure,
and then defining a second structure in the glass layer for the dynamic
layer using a higher energy radiation exposure. The structures are then
developed in TMAH. The structures include at least sensors and
nano-channels. Densification is performed by converting the structures to
SiO.sub.2. Further structures are formed by using different energy
exposures. One structure is a channel having a porous wall prior to
development.
Nano Strukturen werden in einer Glasschicht auf einem Substrat gebildet, indem man eine erste Struktur in der Glasschicht mit einer niedrigen Energiestrahlenbelastung definiert, und eine zweite Struktur in der Glasschicht für die dynamische Schicht mit einer Strahlenbelastung der höheren Energie dann, definierend. Die Strukturen werden dann in TMAH entwickelt. Die Strukturen schließen mindestens Sensoren und Nanoführungen ein. Densification wird durchgeführt, indem man die Strukturen in SiO.sub.2 umwandelt. Weitere Strukturen werden gebildet, indem man unterschiedliche Energiebelichtungen verwendet. Eine Struktur ist eine Führung, die eine poröse Wand vor Entwicklung hat.
