Tertiary alcohol compounds of formula (1) are novel wherein R.sup.1 and
R.sup.2 are C1-10 alkyl groups which may have halogen substituents, or
R.sup.1 and R.sup.2 may form an aliphatic hydrocarbon ring, Y and Z are a
single bond or a divalent C1-10 organic group, and k=0 or 1. Using the
tertiary alcohol compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist
composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to
high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, etching
resistance and substrate adhesion.
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Tertiäre Spiritusmittel von Formel (1) sind Roman, worin R.sup.1 und R.sup.2 Alkylgruppen C1-10 sind, die Halogensubstituenten haben können, oder R.sup.1 und R.sup.2 können einen aliphatischen Kohlenwasserstoffring bilden, sind Y und Z eine einzelne Bindung oder eine zweiwertige organische Gruppe C1-10 und k=0 oder 1. Mit den tertiären Spiritusmitteln als Monomere, werden Polymer-Plastiken erhalten. Ein widerstehenaufbau, der das Polymer-Plastik als niedriges Harz enthält, ist für energiereiche Strahlung empfindlich und hat ausgezeichnete Empfindlichkeit, Auflösung und ätzt Widerstand und Substratadhäsion. ## STR1 ##
