The negative resist composition comprises (1) a film-forming polymer which
is itself soluble in basic aqueous solutions, and contains a first monomer
unit with an alkali-soluble group in the molecule and a second monomer
unit with an alcohol structure on the side chain which is capable of
reacting with the alkali-soluble group, and (2) a photo acid generator
which, when decomposed by absorption of image-forming radiation, is
capable of generating an acid that can induce reaction between the alcohol
structure of the second monomer unit and the alkali-soluble group of the
first monomer unit, or protect the alkali-soluble group of the first
monomer unit. The resist composition can form intricate negative resist
patterns with practical sensitivity and no swelling.
O negativo resiste a composição compreende (1) um polímero film-forming que seja próprio soluble em soluções aqueous básicas, e contem uma primeira unidade do monomer com um grupo alkali-soluble na molécula e uma segunda unidade do monomer com uma estrutura do álcool na corrente lateral que é capaz de reagir com o grupo alkali-soluble, e (2) um gerador ácido da foto que, quando decomposed pelo absorption da radiação imagem-dando forma, seja capaz de gerar um ácido que possa induzir a reação entre a estrutura do álcool da segunda unidade do monomer e o grupo alkali-soluble da primeira unidade do monomer, ou protege o grupo alkali-soluble da primeira unidade do monomer. A composição resistir pode dar forma ao negativo intricado resiste testes padrões com sensibilidade prática e nenhum inchamento.
