Processing apparatus including a reactor for electrochemically etching a microelectronic workpiece

   
   

Although there are several inventions disclosed herein, the present application is directed to a reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece. The reactor comprises a movable electrode assembly that is disposed for movement along a motion path. The motion path includes at least a portion thereof over which the electrode assembly is positioned for processing at least one surface of the microelectronic workpiece. A cleaning electrode is located along the motion path of the movable electrode assembly. In one embodiment, a programmable controller is connected to direct the movable electrode assembly to move to the cleaning electrode during a cleaning cycle. At that time, the programmable controller connects the movable electrode assembly as an anode and the cleaning electrode as a cathode for cleaning of the movable electrode assembly. The cleaning electrode may be disposed along a position of the motion path that is beyond the range of motion required to process the microelectronic workpiece so that the programmable controller may be programmed to conduct a cleaning cycle while a microelectronic workpiece is present in the reactor for processing.

Obgleich es einige Erfindungen gibt, die hierin freigegeben werden, wird die anwesende Anwendung auf einen Reaktor für ein Mikroelektronisches Werkstück elektrochemisch verarbeiten verwiesen. Der Reaktor enthält eine bewegliche Elektrode, die für Bewegung entlang einem Bewegung Weg abgeschaffen wird. Der Bewegung Weg schließt mindestens einen Überschuß des Teils davon ein, den die Elektrode für die Verarbeitung mindestens von von einer Oberfläche des Mikroelektronischen Werkstückes in Position gebracht wird. Eine Reinigung Elektrode wird an dem Bewegung Weg der beweglichen Elektrode errichtet. In einer Verkörperung wird ein programmierbarer Steuerpult angeschlossen, um die bewegliche Elektrode zu verweisen, auf die Reinigung Elektrode während eines Reinigung Zyklus zu bewegen. Zu dieser Zeit schließt der programmierbare Steuerpult die bewegliche Elektrode als Anode und die Reinigung Elektrode als Kathode für Reinigung der beweglichen Elektrode an. Die Reinigung Elektrode kann entlang einer Position des Bewegung Weges abgeschaffen werden, der über der Strecke der Bewegung hinaus erfordert, um das Mikroelektronische Werkstück zu verarbeiten ist, damit der programmierbare Steuerpult programmiert werden kann, einen Reinigung Zyklus zu leiten, während ein Mikroelektronisches Werkstück im Reaktor für die Verarbeitung anwesend ist.

 
Web www.patentalert.com

< Reactor vessel having improved cup, anode and conductor assembly

< Method and apparatus for accessing microelectronic workpiece containers

> Dry contact assemblies and plating machines with dry contact assemblies for plating microelectronic workpieces

> Sonic immersion process system and methods

~ 00124