Integrated circuits using optical waveguide interconnects formed through a semiconductor wafer and methods for forming same

   
   

An integrated circuit with a number of optical waveguides that are formed in high aspect ratio holes. The high aspect ratio holes extend through a semiconductor wafer. The optical waveguides include a highly reflective material that is deposited so as to line an inner surface of the high aspect ratio holes which may be filled with air or a material with an index of refraction that is greater than 1. These metal confined waveguides are used to transmit signals between functional circuits on the semiconductor wafer and functional circuits on the back of the wafer or beneath the wafer.

Um circuito integrado com um número de waveguides óticos que são dados forma na relação de aspecto elevada fura. Os furos elevados da relação de aspecto estendem através de um wafer de semicondutor. Os waveguides óticos incluem um material altamente reflexivo que seja depositado para alinhar uma superfície interna dos furos elevados da relação de aspecto que podem ser enchidos com o ar ou um material com um índice de refraction que é mais grande de 1. Estes waveguides confinados metal são usados transmitir sinais entre circuitos funcionais no wafer de semicondutor e circuitos funcionais na parte traseira do wafer ou abaixo do wafer.

 
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