Disclosed are organometallic compounds derived from Groups VIIb, VIII, IX,
and X metals useful as precursors for the formation of metal containing
powders and for the chemical deposition of the metals on substrates,
particularly for the chemical vapor deposition of metal films suitable for
the manufacture of electronic devices. Methods for their use are also
disclosed. The preferred organometallic compounds of the present invention
are of the formula (R.sup.1).sub.m M(PR.sup.2.sub.3).sub.x, where M is a
metal selected from the group consisting of manganese, technetium,
rhenium, iron, cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, osmium
iridium and platinum wherein m is 0, 1, 2, 3 or 4; x is 2, 3, 4 or 5 and
m+x are 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8, m and x selected according to each metals
appropriate valence; each R.sup.1 is independently selected from the group
consisting of hydrogen, deuterium, N.sub.2, H.sub.2, D.sub.2 and a variety
of substituted alkyl groups; each R.sup.2 is independently selected from
the group consisting of lower alkyl, aryl, arylalkyl, and alkyl-Z, aryl-Z
and arylalkyl-Z where Z is selected from the group consisting of oxy,
silyl, siloxy, oxysilyl, siloxy, oxysiloxy, silyalkyl, oxysilylalkyl,
siloxyalkyl, oxysiloxyalkyl, silylalkoxy, silylalkoxy, siloxyalkoxy and
oxysiloxyalkoxy; and wherein when M is cobalt and one group R.sup.1 is
selected to be N.sub.2, then m is 2 and the second group R.sup.1 is
hydrogen or deuterium.
Показаны металлоорганические смеси выведенные от групп VIIb, VIII, IX, и металлов х полезных как прекурсоры для образования металла содержа порошки и для химически низложения металлов на субстратах, определенно для низложения химически пара пленок металла целесообразных для изготовления электронных приспособлений. Методы для их пользы также показаны. Предпочитаемые металлоорганические смеси присытствыющего вымысла формулы (R.sup.1).sub.m M(PR.sup.2.sub.3).sub.x, где м будет металл выбранный от марганца группы consist of, technetium, рения, утюга, кобальта, никеля, рутения, родия, палладиума, иридия осмия и платины при котором м 0, 1, 2, 3 или 4; x 2, 3, 4 или 5 и m+x 2, 3, 4, 5, 6, 7 или 8, м и х выбранные согласно каждому металлы присваивают значность; каждое R.sup.1 независимо выбрано от водопода группы consist of, дейтерия, N.sub.2, H.sub.2, D.sub.2 и разнообразия замененных алкиловых групп; каждое R.sup.2 независимо выбрано от алкила, арила, arylalkyl, и alkila-Z, arila-Z и arylalkyl-Z где з выбран от consist of группы oxy, силила, siloxy, oxysilyl, siloxy, oxysiloxy, silyalkyl, oxysilylalkyl, siloxyalkyl, oxysiloxyalkyl, silylalkoxy, silylalkoxy, siloxyalkoxy и oxysiloxyalkoxy группы consist of более низких; и при котором когда м будет кобальт и одной группой R.sup.1 выбрана быть N.sub.2, после этого м 2 и второй группой R.sup.1 будет водоподом или дейтерием.
