A system and method for eliminating design rule violations during
construction of a mask layout block are disclosed. The method includes
analyzing a selected position for a polygon in a mask layout block and
obtaining one or more design rules associated with the polygon from a
technology file. The method provides a hint area associated with the
selected position for the polygon that graphically represents a space in
the mask layout block where the selected position complies with the design
rule violation.
Ein System und eine Methode für das Beseitigen von von Designrichtlinie Verletzungen während des Aufbaus eines Schablone Planblockes werden freigegeben. Die Methode schließt das Analysieren einer vorgewählten Position für ein Polygon in einem Schablone Planblock ein und eins oder mehr erreichend, ordnen die Designrichtlinien, die mit dem Polygon von einer Technologie verbunden sind ein. Die Methode stellt einen Tipbereich zur Verfügung, der mit der vorgewählten Position für das Polygon verbunden ist, das graphisch einen Raum im Schablone Planblock darstellt, in dem die vorgewählte Position mit der Designrichtlinie Verletzung übereinstimmt.
