Embedded ROM device using substrate leakage

   
   

A ROM embedded DRAM provides ROM cells that can be programmed to a single state. The ROM cells include capacitors having a storage node. The storage node is processed to have a substantially high substrate leakage. The ROM cells, therefore, are hard programmed to a logic zero state. Bias techniques can be used to read un-programmed ROM cells accurately. As described, sense amplifier circuitry can be offset in one embodiment to default to the un-programmed state. In another embodiment, bias circuitry is coupled to bit lines to favor the un-programmed state. A differential pre-charge operation can also be used in another embodiment.

Um DRAM encaixado ROM fornece as pilhas da ROM que podem ser programadas a um único estado. As pilhas da ROM incluem os capacitores que têm um nó do armazenamento. O nó do armazenamento é processado para ter um escapamento substancialmente elevado da carcaça. As pilhas da ROM, conseqüentemente, são programadas duramente a uma lógica zero estados. As técnicas diagonais podem ser usadas ler exatamente pilhas un-programadas da ROM. Como descritos, os circuitos do amplificador do sentido podem ser deslocados em uma incorporação para optar o estado un-programado. Em uma outra incorporação, os circuitos diagonais são acoplados às linhas do bocado para favorecer o estado un-programado. Uma operação diferencial da pré-carga pode também ser usada em uma outra incorporação.

 
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< Three-dimensional photonic crystal

< Wavelength dispersion compensating filter

> Electrolytic capacitors and method for making them

> Charging member and image forming apparatus provided with the same

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