A method for depositing a substance on a substrate that involves forming a
supercritical fluid solution of at least one supercritical fluid solvent
and at least one solute, discharging the supercritical fluid solution
through an orifice under conditions sufficient to form solid particles of
the solute that are substantially free of the supercritical fluid solvent,
and electrostatically depositing the solid solute particles onto the
substrate. The solid solute particles may be charged to a first electric
potential and then deposited onto the substrate to form a film. The solute
particles may have a mean particle size of less than 1 micron.
Μια μέθοδος για μια ουσία σε ένα υπόστρωμα που περιλαμβάνει τη διαμόρφωση μιας εξαιρετικά κρίσιμης ρευστής λύσης τουλάχιστον ενός εξαιρετικά κρίσιμου ρευστού διαλύτη και τουλάχιστον μιας διαλυτής ουσίας, απαλλάσσοντας την εξαιρετικά κρίσιμη ρευστή λύση μέσω ενός στομίου υπό τους όρους επαρκείς για να διαμορφώσουν τα στερεά μόρια της διαλυτής ουσίας που είναι ουσιαστικά χωρίς εξαιρετικά κρίσιμο ρευστό διαλύτη, και electrostatically κατάθεση των στερεών μορίων διαλυτής ουσίας επάνω στο υπόστρωμα. Τα στερεά μόρια διαλυτής ουσίας μπορούν να χρεωθούν σε μια πρώτη ηλεκτρική δυνατότητα και να κατατεθούν έπειτα επάνω στο υπόστρωμα για να διαμορφώσουν μια ταινία. Τα μόρια διαλυτής ουσίας μπορούν να έχουν ένα μέσο μέγεθος μορίων λιγότερο από 1 μικρού.
