Substrates have a hydrophobic surface coating comprised of the reaction
products of a chlorosilyl group containing compound and an alkylsilane.
Most preferably the substrate is glass. In one preferred form of the
invention, highly durable hydrophobic coatings may be formed by forming a
silicon oxide anchor layer or hybrid organo-silicon oxide anchor layer
from a humidified reaction product of silicon tetrachloride or
trichloromethylsilane, followed by the vapor-deposition of a
chloroalkylsilane. Such a silicon oxide anchor layer will advantageously
have a root mean square surface roughness of less than about 6.0 nm
(preferably less than about 5.0 nm) and a low haze value of less than
about 3.0% (preferably less than about 2.0%). Another embodiment of the
present invention include the simultaneous humidified vapor deposition of
a chlorosilyl group containing compound and a chloroalkylsilane.
Specifically, in certain preferred embodiments, the simultaneous vapor
deposition onto a glass substrate of silicon tetrachloride (SiCl.sub.4)
and dimethyldichlorosilane (DMDCS) results in a hydrophobic coating
comprised of cross-linked polydimethylsiloxane (PDMSO), which may then be
capped with a fluoroalkylsilane (FAS). The cross-linked PDMSO layer may be
formed on the surface of the glass substrate, or a silicon oxide anchor
layer may be deposited under the cross-linked (PDMSO) layer. SiCl.sub.4,
trimethylchlorosilane (TMCS), trichloromethylsilane and combinations of
these silanes therein may also be simultaneously vapor deposited onto a
substrate surface so as to achieve hydrophobic coatings of exceptional
durability.
Substrate haben eine hydrophobe Oberfläche Schicht, die von den Reaktion Produkten einer chlorosilyl Gruppe enthalten wird, die Mittel und ein alkylsilane enthält. Am liebsten ist das Substrat Glas. In einem bevorzugte Form der Erfindung, in hohem Grade haltbare hydrophobe Schichten kann indem die Formung einer Silikonoxid-Ankerschicht oder der Mischlingorganosiliziumoxidankerschicht von einem befeuchteten Reaktion Produkt des Silikon Tetrachlorids oder des trichloromethylsilane gebildet werden, gefolgt worden von der Dampf-Absetzung eines chloroalkylsilane. Solch eine Silikonoxid-Ankerschicht hat vorteilhaft eine Wurzelmittelquadrat-Oberfläche Rauheit von kleiner als ungefähr 6.0 nm (vorzugsweise weniger als ungefähr 5.0 nm) und ein niedriger Dunstwert von kleiner als ungefähr 3.0% (vorzugsweise weniger als ungefähr 2.0%). Eine andere Verkörperung der anwesenden Erfindung schließen die simultane befeuchtete Dampfabsetzung einer chlorosilyl Gruppe ein, die Mittel und ein chloroalkylsilane enthält. Spezifisch in bestimmten bevorzugten Verkörperungen, in der simultanen Dampfabsetzung auf ein Glassubstrat der Resultate des Silikon Tetrachlorids (SiCl.sub.4) und des dimethyldichlorosilane (DMDCS) in einer hydrophoben Schicht enthalten von querverbundenem polydimethylsiloxane (PDMSO), das mit einem fluoroalkylsilane dann mit einer Kappe bedeckt werden kann (FAS). Die querverbundene PDMSO Schicht kann auf der Oberfläche des Glassubstrates gebildet werden, oder eine Silikonoxid-Ankerschicht kann unter der querverbundenen Schicht (PDMSO) niedergelegt werden. SiCl.sub.4, Trimethylchlorosilan (TMCS), trichloromethylsilane und Kombinationen dieser Siliziumwasserstoffe können darin auch gleichzeitig sein vapor niedergelegt auf eine Substratoberfläche, um hydrophobe Schichten der aussergewöhnlichen Haltbarkeit zu erzielen.
